及び蒸留施設 (ヌ)シクロヘキサノン製造施設のうち、酸又はア ルカリによる処理施設 (ル)トリレンジイソシアネ-ト又は無水フタル酸の製造施設のうち、ガス冷却洗…
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及び蒸留施設 (ヌ)シクロヘキサノン製造施設のうち、酸又はア ルカリによる処理施設 (ル)トリレンジイソシアネ-ト又は無水フタル酸の製造施設のうち、ガス冷却洗…
ブ 80 97 ペンシクロン 16 21 エトフェンプロックス 48 60 チオファネートメチル 81 98 ベンゾビシクロン 17 23 オキサジクロメホ…
ブ 80 97 ペンシクロン 16 21 エトフェンプロックス 48 60 チオファネートメチル 81 98 ベンゾビシクロン 17 23 オキサジクロメホ…
ン 76 97 ペンシクロン 16 26 カズサホス 46 64 トリクロピル 77 98 ベンゾビシクロン 17 27 カフェンストロール 47 65 ト…