ウム溶解時におけるカバーガス、半導 体などの製造工程や電気絶縁ガスなどに使用さ れているものです。 三ふっ化窒素 (NF3) 17,200 …
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ウム溶解時におけるカバーガス、半導 体などの製造工程や電気絶縁ガスなどに使用さ れているものです。 三ふっ化窒素 (NF3) 17,200 …
いて、自治体新電力、バーチャルパワープラント(VPP)、地域マイ クログリッドなど、様々な技術や事業スキーム等を研究し、その導入可能性を検討します。 …
ウム溶解時におけるカバーガ ス、半導体などの製造工程や電気絶縁ガ スなどに使用されます。 三ふっ化窒素 (NF3) 17,200 半導体の製…