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シウム溶解時におけるカバーガス、半導 体などの製造工程や電気絶縁ガスなどに使用さ れているものです。 三ふっ化窒素 (NF3) 17,200 …
シウム溶解時におけるカバーガ ス、半導体などの製造工程や電気絶縁ガ スなどに使用されます。 三ふっ化窒素 (NF3) 17,200 半導体の…